纳米尺度3D光学干涉测量系统VS1800应用光干涉现象，对微细的表面形貌进行测量，可实现高性能薄膜、半导体、汽车零配件、显示器等行业所要求的高精度测量。而且还能以无损伤方式进行多层膜的层结构以及层内部的异物测量。

纳米尺度3D光学干涉测量系统VS1800应用光干涉现象，对微细的表面形貌进行测量，可实现高性能薄膜、半导体、汽车零配件、显示器等行业所要求的高精度测量。而且还能以无损伤方式进行多层膜的层结构以及层内部的异物测量。

纳米尺度3D光学干涉测量系统VS1800：测量表面形貌的新标准

随着材料不断趋向平坦化、薄膜化及结构的微细化，人们开始要求比传统的普通SPM（扫描探针显微镜）、触针式粗糙度测量仪及激光显微镜等产品更高的测量精度。相比较利用光干涉原理的白光干涉扫描显微镜，纳米尺度3D光学干涉测量系统VS1800，使用更方便，测量精度跟高，测量范围更大。此外，传统的采用线粗的测量方式仍存在“测量位置导致的结果偏差"和“扫描方向导致的结果偏差"等重大课题。VS1800的解决对策是通过参照国际标准ISO25178规定的表面形貌评估方法来计算参数，建立测量表面形貌的新标准，从而受到了各界的关注。

原子力显微镜的纳米尺度3D探针测量系统AFM5500M同样可实现高度的分辨率为0.1nm以下，与此相比，纳米尺度3D光学干涉测量系统VS1800的一大特点在于面内方向的测量范围更大。发挥两种测量系统各自的优点，根据需求选择合适的测量系统有利于生产率的提高。